Российский производитель микроэлектроники «Микрон» успешно тестирует первый высокочувствительный фоторезист отечественного производства для техпроцессов 90 нм.

Фоторезист – светочувствительный полимерный материал для фотолитографии, который используется в ключевом процессе изготовления интегральных микросхем с целью получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. Строгое соответствие материала необходимым техническим требованиям и стандартам микроэлектронного производства обеспечивает точное формирование элементов на пластине.

В техпроцессах «Микрона» используется 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов и смесей, ведется активная работа по замене всех компонентов отечественными аналогами в целях обеспечения технологического суверенитета.

Возврат к списку